硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (GB/T 29056-2012)

发布日期:2012-12-31 | 实施日期:2013-10-01

标准编号:GB/T 29056-2012

标准名称:硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法

英文名称:Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plas

起草人

郑华荣、刘新军、黄和明、陈逸君、龚磊荣、张莉萍

起草单位

南京中锗科技股份有限公司、南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心、南京大学现代分析中心

适用范围

本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。本标准适用于硅外延用三氯氢硅(SiHC13)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量的测定。

下载标准

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